純鉬製作離子噴嘴的表面處理 Schottky Anode (Mo)

 工件: #半導體用離子注入噴嘴  Schottky Anode (Mo)

產業: #半導體產業
技術需求: 表面優化處理
材質: #純鉬
製造方式: CNC 加工成型

在所有半導體元件中，#離子植入（Ion Implant）是電晶體結構 中一項相當重要的技術。在離子植入過程中，晶圓會受到被稱為 摻質的帶電離子束撞擊，當摻質加速到獲得足夠的能量後，即可 植入薄膜達到預定的深度，進而改變材料的性質，提供特定的電 氣特性。 離子植入技術可將摻質以離子型態植入半導體元件的特定區 域上，以獲得精確的電子特性。#這些離子必須先被加速至具有足 夠能量與速度，以穿透植入薄膜，到達預定的植入深度。 離子植入製程可對植入區內的摻質濃度加以精密控制。基本 上，此摻質濃度（劑量）係由 #離子束電流（離子束內之總離子數） 與掃瞄率（晶圓通過離子束之次數）來控制，而離子植入之深度 則由離子束能量之大小來決定。#純鉬離子噴嘴的表面品質會影響離子束電流的穩定度. #因為鉬具有良好的導電性和耐高溫性，#熱膨脹係數與玻璃相近. 離子佈植的原理有點類似射擊，火藥威力越大，則子彈的能量越大，速度也就越快，射入靶中的深度也越深。重點是：想射到哪就射到哪。離子佈植的做法是以高電壓對離子化的摻雜物質原子作加速動作，利用電場加速離子運動速度及磁場改變運動方向；將經離子化的雜質直接打入矽晶片內，使雜質原子擴散進入矽晶片內部。

#精密表面處理工藝
#電化學拋光
#利豐行 

純鉬製半導體用工件: 表面優化拋光

工件: 半導體離子注入噴嘴
產業: 半導體產業
技術需求: 表面優化拋光
材質: 純鉬
製造方式: CNC 加工成型

鉬具有良好的導電性和耐高溫性，熱膨脹係數與玻璃相近，被廣泛用於製造螺旋燈絲的芯線、引出線及掛鉤等部件。此外，鉬絲也是理想的電火花線切割機床用電極絲，能切割各種鋼材和硬質合金，其放電加工穩定，能有效提高模具精度。

單層的輝鉬材料具有良好的半導體特性，有些性能超過現在廣泛使用的矽和石墨烯，很有可能成為下一代半導體材料。美國加州納米技術研究院已經成功使用MoS2製造出了輝鉬基柔性微處理芯片，這個微芯片只有同等矽基芯片的20%大小，功耗極低，而輝鉬製成的晶體管在待機情況下的功耗為矽晶體管的十萬分之一，而且比同等尺寸的石墨烯電路更加廉價，其電路也有很強的柔性，極薄，可以附著在人體皮膚之上。